200 մմ 8 դյույմ GaN շափյուղա Epi-շերտ վաֆլի ենթաշերտի վրա
Ապրանքի ներկայացում
8 դյույմանոց GaN-on-Sapphire ենթաշերտը բարձրորակ կիսահաղորդչային նյութ է, որը կազմված է գալիումի նիտրիդից (GaN) շերտից, որն աճեցված է շափյուղայի հիմքի վրա:Այս նյութն առաջարկում է գերազանց էլեկտրոնային տրանսպորտային հատկություններ և իդեալական է բարձր հզորության և բարձր հաճախականության կիսահաղորդչային սարքերի արտադրության համար:
Արտադրության մեթոդ
Արտադրական գործընթացը ներառում է GaN շերտի էպիտաքսիալ աճը Sapphire ենթաշերտի վրա՝ օգտագործելով առաջադեմ տեխնիկա, ինչպիսիք են մետաղական օրգանական քիմիական գոլորշիների նստեցումը (MOCVD) կամ մոլեկուլային ճառագայթային էպիտաքսիան (MBE):Տեղադրումն իրականացվում է վերահսկվող պայմաններում՝ ապահովելու բյուրեղային բարձր որակ և թաղանթային միատեսակություն:
Դիմումներ
8 դյույմանոց GaN-on-Sapphire սուբստրատը լայն կիրառություն է գտնում տարբեր ոլորտներում, ներառյալ միկրոալիքային հաղորդակցությունը, ռադարային համակարգերը, անլար տեխնոլոգիաները և օպտոէլեկտրոնիկա:Ընդհանուր հավելվածներից մի քանիսը ներառում են.
1. ՌԴ ուժային ուժեղացուցիչներ
2. LED լուսավորման արդյունաբերություն
3. Անլար ցանցային կապի սարքեր
4. Էլեկտրոնային սարքեր բարձր ջերմաստիճանի միջավայրերի համար
5. Oպտոէլեկտրոնային սարքեր
Ապրանքի բնութագրերը
- Չափ: Ենթաշերտի չափը 8 դյույմ (200 մմ) տրամագծով է:
- Մակերեւույթի որակ. մակերեսը փայլեցված է հարթության բարձր աստիճանով և ցուցադրում է գերազանց հայելային որակ:
- Հաստություն. GaN շերտի հաստությունը կարող է հարմարեցվել հատուկ պահանջների հիման վրա:
- Փաթեթավորում. Ենթաշերտը մանրակրկիտ փաթեթավորված է հակաստատիկ նյութերով` տրանսպորտի ընթացքում վնասը կանխելու համար:
- Կողմնորոշման հարթ. Ենթաշերտը ունի հարթ կողմնորոշում, որն օգնում է վաֆլի հավասարեցմանը և բեռնաթափմանը սարքի պատրաստման գործընթացում:
- Այլ պարամետրեր. Հաստության, դիմադրողականության և դոպանտի կոնցենտրացիայի առանձնահատկությունները կարող են հարմարեցվել ըստ հաճախորդի պահանջների:
Իր բարձրորակ նյութական հատկություններով և բազմակողմանի կիրառություններով՝ 8 դյույմանոց GaN-on-Sapphire ենթաշերտը հուսալի ընտրություն է տարբեր ոլորտներում բարձր արդյունավետությամբ կիսահաղորդչային սարքերի մշակման համար:
Բացի GaN-On-Sapphire-ից, մենք կարող ենք նաև առաջարկել էլեկտրական սարքերի կիրառման ոլորտում, արտադրանքի ընտանիքը ներառում է 8 դյույմանոց AlGaN/GaN-on-Si էպիտաքսիալ վաֆլիներ և 8 դյույմանոց P-cap AlGaN/GaN-on-Si էպիտաքսիալ: վաֆլիներ.Միևնույն ժամանակ, մենք նորարարեցինք իր սեփական առաջադեմ 8 դյույմանոց GaN epitaxy տեխնոլոգիայի կիրառումը միկրոալիքային վառարանում և մշակեցինք 8 դյույմանոց AlGaN/GAN-on-HR Si epitaxy վաֆլի, որը համատեղում է բարձր արդյունավետությունը մեծ չափի և ցածր գնի հետ: և համատեղելի է ստանդարտ 8 դյույմանոց սարքի մշակման հետ:Բացի սիլիցիումի վրա հիմնված գալիումի նիտրիդից, մենք նաև ունենք AlGaN/GaN-on-SiC էպիտաքսիալ վաֆլիների արտադրանքի գիծ՝ սիլիցիումի վրա հիմնված գալիումի նիտրիդային էպիտաքսիալ նյութերի հաճախորդների կարիքները բավարարելու համար:
Մանրամասն դիագրամ
